特許

J-GLOBAL ID：200903095432305330

電子線描画方法、電子線描画方法を用いて作成した原盤をもとに製作したスタンパ用金型、およびスタンパ用金型で製作した情報記録媒体

発明者： 藤田 滋 ,  藤原 康秀
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 丸山 隆夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-330056
公開番号（公開出願番号）：特開2004-163698
出願日： 2002年11月13日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：

【課題】ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスクなどの情報記録媒体の原盤由来のノイズ成分、特に、レジスト面荒れ領域に由来するノイズ成分の低減化をはかる電子線描画方法を提供する。【解決手段】メディアの原盤となる電子線描画の被加工物は、基板1とレジスト層2と、レジスト表面層3で構成される。ここで、レジスト層2とレジスト表面層3とは、一層であり、説明の便宜上分割してある。被加工物に露光し潜像形成後(EB露光後)、現像前に、レジスト表面層3を除去(面荒れ領域除去)する。レジスト表面層3の除去には、チャージアップが発生しないように、オゾン分解アッシング処理を用いる。レジスト表面層3の除去後、現像をする。【選択図】 図7

請求項（抜粋）：

電子線描画装置を用いた半導体集積回路素子や超微細光学素子などに代表される微細加工プロセスにおいて、 メディア原盤となるレジスト層を有する基板に、電子線照射により潜像パターンを形成し、前期潜像パターンの表面近傍のレジスト表面層を所定の厚みだけ除去することを特徴とする電子線描画方法。

IPC (5件)：

G03F7/38 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  G11B7/26 ,  H01L21/027

FI (5件)：

G03F7/38 511 ,  G03F7/20 504 ,  G03F7/40 ,  G11B7/26 501 ,  H01L21/30 568

Fターム (18件)：

2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096AA30 ,  2H096EA06 ,  2H096FA10 ,  2H096HA30 ,  2H096JA03 ,  2H096JA04 ,  2H097AA03 ,  2H097AB07 ,  2H097CA16 ,  2H097LA20 ,  5D121BB01 ,  5D121BB21 ,  5D121BB28 ,  5D121BB32 ,  5D121BB34 ,  5F046MA18