特許
J-GLOBAL ID：200903095466826398
位相シフト・マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
合田 潔 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-248011
公開番号（公開出願番号）：特開平6-266096
出願日： 1993年10月04日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】 位相シフト技術を用いて、フォトリソグラフィの高解像度化を図ること。【構成】 各パターンを囲む位相シフト・リムからなる位相シフト・マスクが提供される。稠密充填パターンでは、単純なリム位相シフト・マスクによって画定される0度の領域と180度の領域が交互に逆転する。この逆転は、0度から180度及び180度から0度の形も、0度から180度及び0度から-180度の形も取ることができる。小さな不透明の線では、リム位相シフタがただの画素となり、リム内にマスク吸収材パターンが残らないこともある。大型の共通露光脱焦点ウィンドウを確保するには、個別のまたは均一なパターン寸法の設定を用いることができる。
請求項（抜粋）：
吸収性ブロッカが、狭い分離した吸収材線上以外の場所に存在し、リム位相シフタと逆リム位相シフタが交互に配置されている位相シフト・マスク。
IPC (2件)：
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