結像方法及び該方法を用いる露光装置及び該方法を用いるデバイス製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高梨幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-212198
公開番号（公開出願番号）：特開平6-188169
出願日： 1993年08月04日
公開日（公表日）： 1994年07月08日
要約：

【要約】【目的】周期性のパターンを最適な偏光状態の光束を用いて高解像度で投影するようにした結像方法及び該方法を用いる露光装置を得ること。【構成】照明系からの光束でレチクル面上の周期性のあるパターンを照明し、該パターンから生じる回折光を投影光学系の瞳に入射させて、該パターンの像をウエハ面上に投影する際、偏光装置により該パターンの周期が最短となる方向に対して略直交する方向に偏光面を有する直線偏光の光束を選択して投影していること。

請求項（抜粋）：

ライン状のパターンを該パターンの長手方向に偏光した偏光ビームで結像していることを特徴とする結像方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G02B 27/28 , G03F 7/20 521 , G11B 5/127 , G11B 5/31

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