特許
J-GLOBAL ID：200903095493024775
X線走査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-067344
公開番号（公開出願番号）：特開平5-273400
出願日： 1992年03月25日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：
【要約】【目的】 固定した試料上に一定強度のX線マイクロビームを走査させる。【構成】 X線源1、該X線源1から出射したX線を反射する振動可能な反射手段2および該反射手段2で反射されたX線をマイクロビームとするX線光学素子3とでX線走査装置を構成した。そして、反射手段2をX線源1とX線光学素子3の主点との距離をほぼ2分する位置に配置した。
請求項（抜粋）：
X線源、該X線源から出射したX線を反射する振動可能な反射手段および該反射手段で反射されたX線をマイクロビームとするX線光学素子を有し、前記反射手段が前記X線源と前記X線光学素子の主点との距離をほぼ2分する位置に配置されていることを特徴とするX線走査装置。
IPC (2件)：
G21K 7/00
, G02B 26/10 101
