特許
J-GLOBAL ID:200903095498294380
液処理方法及び液処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中本 菊彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-241505
公開番号(公開出願番号):特開2003-151898
出願日: 2002年08月22日
公開日(公表日): 2003年05月23日
要約:
【要約】【課題】 処理液の温度を許容温度範囲内に制御して、処理効率の向上やスループットの向上を図れるようにすると共に、処理液の劣化防止及び寿命の増大を図れるようにすること。【解決手段】 タンク10内に貯留される薬液Lをヒータ1及び冷却手段2によって加熱及び冷却温調可能にすると共に、待機循環させておき、この待機循環中の薬液Lを処理室6内に収容されたウエハWに供給して処理を施す液処理方法において、待機循環中に、タンク10内の薬液Lに対して加熱及び冷却を同時に行うことにより、薬液Lの温度を許容温度範囲内に制御して、次の処理に備えるようにする。
請求項(抜粋):
タンク内に貯留される処理液を加熱手段及び冷却手段により、加熱及び冷却可能にすると供に、待機循環させておき、この待機循環中の処理液を処理室内に収容された被処理体に供給して処理を施し、上記被処理体に供給した処理液を上記タンク内に戻す液処理方法において、上記待機循環中に、上記タンク内の処理液に対して加熱及び冷却を同時に行うことを特徴とする液処理方法。
IPC (3件):
H01L 21/027
, B08B 3/10
, H01L 21/304 648
FI (3件):
B08B 3/10 Z
, H01L 21/304 648 K
, H01L 21/30 572 B
Fターム (13件):
3B201AA01
, 3B201AB47
, 3B201BB22
, 3B201BB82
, 3B201BB92
, 3B201CC01
, 3B201CC12
, 3B201CD31
, 3B201CD41
, 3B201CD43
, 5F046MA02
, 5F046MA03
, 5F046MA10
引用特許:
審査官引用 (6件)
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洗浄装置、洗浄システム、処理装置及び洗浄方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-235754
出願人:東京エレクトロン株式会社
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処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-357985
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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基板加熱処理装置および温度制御方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-216911
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
基板温度制御装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-113575
出願人:株式会社小松製作所
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ウエハ洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-208767
出願人:ソニー株式会社
-
熱処理装置及び熱処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-189696
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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