特許

J-GLOBAL ID：200903095507982790

薄膜製造装置

発明者： 山田 紳月
出願人/特許権者： 三菱樹脂株式会社 ,  田中貴金属工業株式会社 ,  三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-244920
公開番号（公開出願番号）：特開平9-087841
出願日： 1995年09月22日
公開日（公表日）： 1997年03月31日
要約：

【要約】【課題】 薄膜製造装置の基材ホルダーあるいはマスキング部材など基材に付着した金のような貴金属、効率良く回収できるようにする。【解決手段】 基材上に薄膜を形成する薄膜製造装置である。この薄膜製造装置は基材の一部を覆う銅製部材の表面粗さがRa :20μm以下であり、かつ、銅製部材の表面は白金層で覆われている。

請求項（抜粋）：

基材上に薄膜を形成する薄膜製造装置において、前記基材の一部を覆う銅製部材の表面粗さがRa :20μm以下であり、かつ、前記銅製部材の表面は白金層で覆われていることを特徴とする薄膜製造装置。

IPC (4件)：

C23C 14/50 ,  G11B 7/26 531 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/26

FI (4件)：

C23C 14/50 F ,  G11B 7/26 531 ,  G02B 5/26 ,  G02B 1/10 Z