特許

J-GLOBAL ID：200903095511216717

光変調素子及びその製造方法

発明者： 中易 裕一 ,  進藤 忠文 ,  安藤 雅之
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 吉田 勝広 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-214737
公開番号（公開出願番号）：特開平6-034954
出願日： 1992年07月21日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：

【要約】【目的】 パタ-ンコーティングを容易に行うことが出来、又、電気絶縁性材料からなる隔壁によって区画された複数の区画室内のみにコーテイングを容易に行うことが出来、その結果優れた特性を有する光変調素子及びその製造方法を提供すること。【構成】 液晶粒子が高分子マトリックス中に分散してなる液晶/高分子複合膜を用いた光変調素子において、該複合膜が、液晶粒子と、重合度が300〜1,200且つ鹸化度が50%〜85%のポリビニルアルコール(PVA)と、シリカ超微粒子とからなり、PVA/液晶の混合比(重量比)が5/95〜50/50である液晶/高分子複合膜を用いることを特徴とする光変調素子、及びその製造方法。

請求項（抜粋）：

液晶粒子が高分子マトリックス中に分散してなる液晶/高分子複合膜を用いた光変調素子において、該複合膜が、液晶粒子と、重合度が300〜1,200且つ鹸化度が50%〜85%のポリビニルアルコール(PVA)と、シリカ超微粒子とからなり、PVA/液晶の混合比(重量比)が5/95〜50/50である液晶/高分子複合膜を用いることを特徴とする光変調素子。

IPC (2件)：

G02F 1/1333 ,  G02F 1/13 101

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-029218
  
• 特開平2-205821
  
• 特開平3-063629