特許

J-GLOBAL ID：200903095515497303

熱処理装置

発明者： 楠田 達文
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-087589
公開番号（公開出願番号）：特開2000-286206
出願日： 1999年03月30日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】ランプ等の加熱源の状態を低コストで検出でき、信頼性の向上した熱処理装置を提供する。【解決手段】ウエハWに熱処理を行う熱処理装置1において、処理空間PS内で均熱リング41に保持されたウエハWと対向して配置された発光部20のランプ群210を構成する複数のランプ21a〜21dがウエハWに光を照射してアニール処理等の加熱処理を行う。このとき、複数のランプ21a〜21dに接続された配線212a〜212dを介して電流検出センサ214が電流を検出する。その結果、ランプ21の状態を低コストで検出でき、かつ熱処理装置1としての信頼性も向上する。

請求項（抜粋）：

【請求項1】基板に熱処理を行う熱処理装置であって、基板を収納する処理室と、前記処理室内で基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された基板の表面に対向して配置され、基板を加熱するための複数の加熱源を有する加熱手段と、前記加熱手段が有している複数の加熱源を1組として、前記加熱源の状態を検出する検出手段と、を備えたことを特徴とする熱処理装置。