特許

J-GLOBAL ID：200903095519637541

光学材料用組成物

発明者： 吉村 祐一 ,  竹内 基晴 ,  堀越 裕 ,  早川 淳也 ,  嘉村 輝雄
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-062368
公開番号（公開出願番号）：特開2005-182084
出願日： 2005年03月07日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：

【課題】 高屈折率および高アッベ数を有する光学材料用樹脂の製造方法を提供する。 【解決手段】 硫黄原子および/またはセレン原子を有する無機化合物より選ばれる少なくとも1種の無機化合物と、ビス(β-エピチオプロピル)ジスルフィド、2,5-ビス(β-エピチオプロピルチオメチル)-1,4-ジチアン、ビス(β-エピジチオプロピル)スルフィド、ビス(β-エピジチオプロピル)ジスルフィド、1,2,3-トリス(β-エピチオプロピルチオ)プロパン、又は1,3-ビス(β-エピチオプロピルチオ)ベンゼンを含有してなる光学材料用組成物を重合硬化して光学材料用樹脂を製造する。 【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

硫黄原子および/またはセレン原子を有する無機化合物より選ばれる1種以上の無機化合物と、ビス(β-エピチオプロピル)ジスルフィド、2,5-ビス(β-エピチオプロピルチオメチル)-1,4-ジチアン、ビス(β-エピジチオプロピル)スルフィド、ビス(β-エピジチオプロピル)ジスルフィド、1,2,3-トリス(β-エピチオプロピルチオ)プロパン、又は1,3-ビス(β-エピチオプロピルチオ)ベンゼンを含有してなる光学材料用組成物。

IPC (2件)：

G02C7/02 ,  C08G75/00

FI (2件)：

G02C7/02 ,  C08G75/00

Fターム (5件)：

4J030BA03 ,  4J030BA04 ,  4J030BA05 ,  4J030BB01 ,  4J030BG25