特許
J-GLOBAL ID:200903095529311296

光導波路およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高山 道夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-086349
公開番号(公開出願番号):特開2003-156642
出願日: 2002年03月26日
公開日(公表日): 2003年05月30日
要約:
【要約】【課題】 フォトニック結晶全体に渡る周期性のずれを生じさせることなく、また、帯域の広い曲げ導波路を構成できる、光導波路およびその製造方法を提供する。【解決手段】 1は基板、2はSiO2層、3はSi層、4、5は格子点列、aは格子定数、Wは単純に格子を1列抜いた場合の欠陥を挟んだ両側の最近接格子の中心間距離である。スラブ型2次元フォトニック結晶における複数の直線状の格子列群から1列格子列を除いて線欠陥構造とし、格子点1列分の線欠陥幅よりも狭くなるように、線欠陥に近接する格子点列を移動させ、または、格子点上に配置された構造体を変形させ、導波路幅を0.7Wとした構造である。この構造の光導波路は、ライトラインよりも下に大きな群速度を持った単一導波モードが存在する。
請求項(抜粋):
スラブ型2次元フォトニック結晶の格子点に配列された構造体の一部を除いて形成された格子点1列分の線欠陥構造を有し、前記線欠陥が単一モード条件を満足するように、それに近接する複数列の格子点上の構造体を移動させ、または変形させたことを特徴とする光導波路。
FI (2件):
G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 N
Fターム (7件):
2H047KA03 ,  2H047KA12 ,  2H047PA22 ,  2H047PA24 ,  2H047QA04 ,  2H047QA05 ,  2H047TA01
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)
引用文献:
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