特許
J-GLOBAL ID:200903095551114941
半導体装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
谷 義一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-222896
公開番号(公開出願番号):特開平5-063200
出願日: 1991年09月03日
公開日(公表日): 1993年03月12日
要約:
【要約】【目的】 電極数が少なく素子分離領域が小さく、かつ、ラッチアップ耐性の高い半導体装置を実現する。【構成】 絶縁体106の主面に形成された絶縁ゲート型電界効果トランジスタにおいて、埋込みのドレイン領域101,203および、埋込みのゲート領域105を有する。
請求項(抜粋):
絶縁体の主面に形成された絶縁ゲート型電界効果トランジスタにおいて、埋込みのドレイン領域および、埋込みのゲート領域を有することを特徴とする半導体装置。
IPC (5件):
H01L 29/784
, H01L 21/285
, H01L 21/285 301
, H01L 27/08 331
, H01L 27/12
FI (2件):
H01L 29/78 311 X
, H01L 29/78 311 C
引用特許:
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