特許

J-GLOBAL ID：200903095564265264

露光装置、レーザ光源、露光方法、及びデバイス製造方法

発明者： 内田 高明
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-331987
公開番号（公開出願番号）：特開2007-142052
出願日： 2005年11月16日
公開日（公表日）： 2007年06月07日
要約：

【課題】レーザ光のスペクトル特性として、スペクトル幅の上限値以外の特性を用いて、露光されるパターンの線幅等の特性を制御する。【解決手段】レーザビームLBでレチクルR及び投影光学系PLを介してウエハWを露光する露光装置において、レーザビームLBのスペクトルの強度分布の積分値に基づいて定まる第1のスペクトル幅(95%エネルギ純度幅E95%)と、レーザビームLBのスペクトルのピーク値に対して強度が所定割合まで低下するときの幅である第2のスペクトル幅(半値全幅FWHM)との比の値を用いて、ウエハW上への露光パターンの特性を制御する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

レーザ光をパターンに照射し、前記レーザ光で前記パターンを介して物体を露光する露光装置において、 前記レーザ光のスペクトルの強度分布の積分値に基づいて定まる第1のスペクトル幅と、前記レーザ光のスペクトルのピーク値に対して強度が所定割合まで低下するときの幅である第2のスペクトル幅との比の値を用いて、前記パターンの前記物体上への露光パターンの特性を制御することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01S 3/137

FI (4件)：

H01L21/30 515B ,  G03F7/20 505 ,  G03F7/20 521 ,  H01S3/137

Fターム (21件)：

2H097AB09 ,  2H097BB01 ,  2H097BB02 ,  2H097BB10 ,  2H097CA17 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CA10 ,  5F046CB07 ,  5F046CB10 ,  5F046CB12 ,  5F046CB22 ,  5F046DA01 ,  5F172AD06 ,  5F172NN24 ,  5F172NP03 ,  5F172NQ13 ,  5F172ZZ02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許出願公開第2001/0026448A1号