特許

J-GLOBAL ID：200903095572822261

水処理装置

発明者： 坂元 健二 ,  常田 昌広 ,  大島 功治 ,  遠藤 慎良 ,  安藤 茂 ,  原賀 久人
出願人/特許権者： 東陶機器株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-043338
公開番号（公開出願番号）：特開2001-232359
出願日： 2000年02月21日
公開日（公表日）： 2001年08月28日
要約：

【要約】【課題】 保護管にスケールが付着することによる分解効率の低下が無く、効率的に被処理水に紫外線を照射することができる。しかも攪拌機等の特別な機器を必要とせずに被処理水を実質的に霧状にすることにより、処理水全体に紫外線を照射する事ができ、同時に供給する反応ガスと被処理水の接触面積が大になるため、効果的に有機物の分解を行うことができる水の浄化方法および水処理装置を提供すること【解決手段】 上記目的を解決するために、反応容器と反応空間へのガス供給手段と該反応容器内に配置された少なくとも1つ以上の紫外線ランプと被処理水供給手段と被処理水取り出し口とガス供給口及び取り出し口とを備えた水処理装置において、被処理水を紫外線反応空間に霧状態に供給することにより有機化合物を分解した。

請求項（抜粋）：

反応容器と、反応空間へのガス供給手段と、該反応容器内に配置された少なくとも1つ以上の紫外線ランプと、被処理水供給手段と被処理水取り出し口と、ガス供給口及び取り出し口とを備えた水処理装置において、被処理水を紫外線反応空間に霧状態に供給することを特徴とする水処理装置。

IPC (3件)：

C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/58

FI (4件)：

C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/58 A ,  C02F 1/58 H

Fターム (16件)：

4D037AA02 ,  4D037AA03 ,  4D037AB14 ,  4D037BA18 ,  4D037BA24 ,  4D037BB01 ,  4D037BB04 ,  4D037BB07 ,  4D037CA12 ,  4D038AA02 ,  4D038AB07 ,  4D038BA02 ,  4D038BA04 ,  4D038BA06 ,  4D038BB07 ,  4D038BB16