特許

J-GLOBAL ID：200903095575012821

高電流密度を用いて高い被覆速度で粒子上に金属被覆する電気めっき方法

発明者： イー,ペイ
出願人/特許権者： イー,ペイ
代理人 (1件)： 奥山 尚一 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-530647
公開番号（公開出願番号）：特表2002-502916
出願日： 1999年01月29日
公開日（公表日）： 2002年01月29日
要約：

【要約】本発明の電気めっき方法は、本質的に、少なくとも3つの独立した段階を有する循環操作であり、各操作サイクルでは、該独立した段階は、順序通りに実施され、攪拌、沈降及び電気めっきの各段階からなる。前記沈降段階は、陰極板上に、緩く接触する粒子の沈降層が生じるように、本質的に電解質溶液に電流を通さず、本質的に攪拌しないで、本質的に休止時間にわたり行われる。該沈降段階に続いて、少なくとも5A/dm2以上の電流密度で電気めっき段階が行われる。前記撹拌段階は、該電気めっき段階に続いてすぐ行われ、この撹拌操作は、前記沈降層中の粒子を分散させるのに十分に強制的に、かつ前の電気めっき段階の間に形成された金属被覆により架橋された粒子を破砕する。

請求項（抜粋）：

陽極と、陰極板とを備える電気めっき装置の中で、金属イオン含有電解質溶液中の粒子を電気めっきする方法において、 少なくとも1つの操作サイクルからなり、該操作サイクルは、別々に、かつ順番に行われる、少なくとも3つの、本質的に独立した段階である、攪拌、沈降及び電気めっきの各段階を有し、 前記沈降段階は、前記陰極板上に、緩く接触する前記粒子の沈降層を形成するように、本質的に前記電解質溶液に電流を流さず、かつ本質的に攪拌しないで、本質的に休止時間にわたって該沈降層を生じさせ、 次いで、前記電気めっき段階にて、電圧を前記陽極と前記陰極板との間にかけて前記電解質溶液中に電流を流して、少なくとも5A/dm2以上の電流密度で行い、 該電気めっき段階に引き続いて直ぐ前記攪拌段階を行い、この攪拌操作は、少なくとも初めに、前記沈降層中の前記粒子を分散させるとともに、前の前記電気めっき段階の間に形成された金属被覆でブリッジされた前記粒子を崩壊するのに十分強制的に行うことを特徴とする電気めっき方法。

IPC (3件)：

C25D 7/00 ,  B22F 1/02 ,  C25D 17/16

FI (3件)：

C25D 7/00 R ,  B22F 1/02 A ,  C25D 17/16

Fターム (24件)：

4K018BA09 ,  4K018BA11 ,  4K018BA18 ,  4K018BB04 ,  4K018BC23 ,  4K024AA03 ,  4K024AA04 ,  4K024AA05 ,  4K024AA09 ,  4K024AB01 ,  4K024AB02 ,  4K024AB17 ,  4K024BA01 ,  4K024BA07 ,  4K024BA12 ,  4K024BA15 ,  4K024BC08 ,  4K024CA06 ,  4K024CA07 ,  4K024CA15 ,  4K024CB05 ,  4K024CB08 ,  4K024CB12 ,  4K024GA16