特許

J-GLOBAL ID：200903095576800912

単分散性ポリスチレン系粒子の製造方法

発明者： 小島 千加子 ,  古川 彰
出願人/特許権者： 三菱製紙株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-291608
公開番号（公開出願番号）：特開平8-120004
出願日： 1994年11月25日
公開日（公表日）： 1996年05月14日
要約：

【要約】【目的】 単分散性ポリマー粒子を製造するにあたり、重合条件の変化に対して安定で再分散性の良好な単分散性のポリスチレンおよびスチレンと共重合可能なビニルモノマーとの共重合粒子を得る製造方法を提供する。【構成】 アルコール性媒体中で、化1に示されるモノマーAと該溶媒に可溶のビニル重合体を構成する、例えばN-ビニルピロリドンやメタクリル酸2-ヒドロキシエチル等のモノマーとの重合体Sの存在下、スチレンあるいはスチレンと共重合可能なビニルモノマーとスチレンとを重合することにより、再分散性が優れた単分散性ポリスチレン系粒子を製造する方法。【化1】(化1中R1は水素原子あるいはメチル基を表わし、 Qは2価の連結基を表わし、Aはメルカプト基を有するオキサジアゾール環、チアジアゾール環、セレナジアゾール環、トリアゾール環、トリアジン環を形成するに必要な原子群を表わす。)

請求項（抜粋）：

アルコール性媒体中において、化1に示されるモノマーAを有する重合体Sの存在下で、下記に示されるモノマーBを重合することにより平均粒子径1μm以上20μm以下の単分散性ポリスチレン系粒子を製造することを特徴とする単分散性ポリスチレン系粒子の製造方法。【化1】(化1中R1は水素原子あるいはメチル基を表わし、Qは2価の連結基を表わし、Aはメルカプト基を有するオキサジアゾール環、チアジアゾール環、セレナジアゾール環、トリアゾール環、トリアジン環を形成するに必要な原子群を表わす。)モノマーB:スチレン、あるいはスチレンと共重合可能なモノマーとスチレンとの混合物。

IPC (3件)：

C08F 2/08 MBB ,  C08F 12/08 MJT ,  G03G 9/087