特許
J-GLOBAL ID：200903095578314314
散乱式粒度分布測定方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-021725
公開番号（公開出願番号）：特開平9-196841
出願日： 1996年01月13日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：
【要約】【課題】 試料が高濃度である場合、これを希釈しなくても粒度分布を正確に測定することができる散乱式粒度分布測定方法を提供すること。【解決手段】 光源1からの光2を試料5を収容したセル4に対して照射し、そのときの散乱光10を集光レンズ6を介して光検出器7に入射させ、そのとき得られる散乱光強度パターンに基づいて試料中の粒度分布を測定する散乱式粒度分布測定方法において、前記セル4内に無色透明のスペーサ12を設けることにより、セル4内の試料5の光学的長さcを調整するようにした。
請求項（抜粋）：
光源からの光を試料を収容したセルに対して照射し、そのときの散乱光を集光レンズを介して光検出器に入射させ、そのとき得られる散乱光強度パターンに基づいて試料中の粒度分布を測定する散乱式粒度分布測定方法において、前記セル内に無色透明のスペーサを設けることにより、セル内の試料の光学的長さを調整することを特徴とする散乱式粒度分布測定方法。
IPC (3件)：
G01N 15/02
, G01N 21/03
, G01N 21/47
G01N 15/02 A
, G01N 21/03 Z
, G01N 21/47 Z
