特許

J-GLOBAL ID：200903095591242055

非対称性中空糸ポリイミド気体分離膜

発明者： 吉永 利宗 ,  星野 治利 ,  浅沼 信二 ,  平山 祐誠
出願人/特許権者： 宇部興産株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-041264
公開番号（公開出願番号）：特開平6-254367
出願日： 1993年03月02日
公開日（公表日）： 1994年09月13日
要約：

【要約】【目的】本願発明は、非対称性中空糸ポリイミド気体分離膜に関する。本願発明の気体分離膜は、特に酸素と窒素との分離度が高く、機械的性質が優れ、再現性よく製造が可能で、使用条件で性能が安定しているので、窒素富化膜、酸素富化膜として好適である。【構成】本願発明は、テトラカルボン酸成分として、ビフェニルテトラカルボン酸類、ビス(ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン類、ピロメリット酸類、ジアミン成分として、ジアミノジフェニレンスルホン類、ベンジジン類を用いた特定の反復単位からなる非対称性中空糸ポリイミド気体分離膜に関する。

請求項（抜粋）：

実質的に下記一般式(1)【化1】[但し、一般式(1)中のAは、その25〜100モル%が式(2)【化2】で示されるビフェニル構造に基く4価のユニットで、0〜70モル%が式(3)【化3】で示されるジフェニルヘキサフルオロプロパン構造に基く4価のユニットで、0〜30モル%が式(4)【化4】で示されるフェニル構造に基く4価のユニットで、一般式(1)中のRは、その30〜70モル%が式(5)【化5】で示され、式(5)のR1 及びR2 が水素原子または低級アルキル基であるジフェニレンスルホン構造に基く2価のユニットで、30〜70モル%が式(6)【化6】で示され、式(6)のXは塩素原子又は臭素原子でnは1〜3であるビフェニル構造に基く2価のユニットである。]からなる反復単位を有し、窒素の透過速度に対する酸素の透過速度の比(P' O2 /P' N2 )が5.3以上である非対称性中空糸ポリイミド気体分離膜。

IPC (2件)：

B01D 71/64 ,  B01D 69/08