特許

J-GLOBAL ID：200903095628844069

レジスト膜およびその形成方法

発明者： 菅長 利文 ,  石橋 健夫
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-118729
公開番号（公開出願番号）：特開平5-315243
出願日： 1992年05月12日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：

【要約】【目的】 レジスト膜中での露光用光の減衰に起因する解像度の低下や被処理基板との密着性の改善等、種々異なる要求に対し柔軟に対応できるレジスト膜を得る。【構成】 例えば同一カップ12内に複数のノズル11を有するスピナーを用い、同一シーケンス内で各ノズルから順次組成の異なるレジストを吐出させ、レジスト膜の組成を順次変化させる。

請求項（抜粋）：

被処理基板上に形成したレジスト膜において、被処理基板との接触面より表面に向けて膜中の組成を順次変化させたことを特徴とするレジスト膜。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/26 511 ,  B05D 1/40

FI (2件)：

H01L 21/30 361 S ,  H01L 21/30 361 D