特許

J-GLOBAL ID：200903095640358609

均質なポリエチレン製微多孔膜及びその製造方法

発明者： 安形 公一
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-166612
公開番号（公開出願番号）：特開平5-021050
出願日： 1991年07月08日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：

【要約】【目的】 高強度で、かつ適度な孔径を有する微多孔膜を提供する。【構成】 少なくとも粘度平均分子量200万以上の起高分子量ポリエチレンを30wt%以上含有する微多孔膜であって、機械方向に高強度で、巾方向に適度な伸びを有するポリエチレン製微多孔膜。

請求項（抜粋）：

三次元網目構造を有する微多孔膜であって、粘度平均分子量が、200万以上である超高分子量ポリエチレンを少なくとも該微多孔膜の30wt%以上含有し、気孔率が40%以上、透気度が450sec/100cc以下、機械方向の弾性率が4000kg/cm2 以上、機械方向と直角方向の破断伸度が400%以上、エチルアルコ-ルにおけるバブルポイントが2kg/cm2 〜10kg/cm2 であり、平均孔径と最大孔径の比が、1.6以下であることを特徴とする均質な超高分子量ポリエチレン製微多孔膜

IPC (5件)：

H01M 2/16 ,  B01D 71/26 ,  C08J 9/00 CES ,  C08J 9/26 101 ,  C08L 23:04