特許

J-GLOBAL ID：200903095655269459

極端紫外光集光鏡および極端紫外光光源装置

発明者： 蕪木 清幸 ,  佐藤 弘人
出願人/特許権者： ウシオ電機株式会社
代理人 (1件)： 長澤 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-114219
公開番号（公開出願番号）：特開2007-285909
出願日： 2006年04月18日
公開日（公表日）： 2007年11月01日
要約：

【課題】EUV集光鏡によって集光されるEUV光の遠方配光分布を良好とし、照度ムラを抑制すること。【解決手段】回転楕円面形状、回転放物面形状、ウォルター型形状等の複数枚の薄い凹面ミラーを入れ子状に高精度に配置したEUV集光鏡において、各ミラーb,c,d,eの光入射端の厚みにより遮光されないように、各ミラーa〜eの光入射端の反射面でない側の形状をナイフエッジ状に形成する。同様に、各ミラーb,c,d,eの光出射端についても、光出射端の形状をナイフエッジ状の構成する。これにより、EUV光源装置に使用したときの遠方配光分布を良好とし、光度の低下度は従来のものより小さくすることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

径が互いに異なる複数枚の凹面ミラーを入れ子状に配置してなる斜入射型の極端紫外光集光鏡において、 各凹面ミラーの反射面でない側の端部に斜面が形成されている ことを特徴とする極端紫外光集光鏡。

IPC (5件)：

G21K 1/06 ,  G21K 5/08 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/027 ,  H05G 2/00

FI (6件)：

G21K1/06 B ,  G21K1/06 M ,  G21K5/08 X ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 531A ,  H05G1/00 K

Fターム (6件)：

4C092AA04 ,  4C092AB19 ,  4C092AC09 ,  5F046GA03 ,  5F046GB01 ,  5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 放射源と放射源からの放射を処理する処理機構とを含む遠紫外線リソグラフィに適した装置、ならびに放射源から放射された望ましくない原子および微小粒子を抑制するためのフィルタ
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-532779   出願人：スティクティング・ヴーア・デ・テクニシェ・ウェッテンシャペン
• ガス放電に基づいて極紫外線を発生する装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-297520   出願人：イクストリーメテクノロジースゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
• 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-195839   出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (4件)

• 193nmより短い波長を用いた照明光学系のための、不使用領域を持つ集光器
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-565318   出願人：カールツァイスエスエムテーアーゲー
• 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-195839   出願人：株式会社ニコン
• リソグラフィ投影装置及び前記装置で使用する微粒子バリヤ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-336475   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 極端紫外光放射源及び半導体露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-071873   出願人：ウシオ電機株式会社