特許
J-GLOBAL ID：200903095657342480

仮基礎、建物施工用基礎装置及び仮基礎を用いた建物の施工方法

発明者：
内田 直人

内田 直人 について


出願人/特許権者：
積水化学工業株式会社

積水化学工業株式会社 について

, 
株式会社セキスイハーモネート施工技術センター

株式会社セキスイハーモネート施工技術センター について


代理人 (1件)： 九十九 高秋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-059685
公開番号（公開出願番号）：特開平11-256828
出願日： 1998年03月11日
公開日（公表日）： 1999年09月21日
要約：
【要約】【課題】 本発明の目的は、基礎の間隙部に嵌め込んで、安定した設置ができ、作業後の撤去の容易な建物基礎と面一な仮基礎を提供するものである。【解決手段】 本発明は、建物基礎の上面10dを不連続とする間隙部10bに取り付けられる仮基礎11であって、高さを調整可能な架台31と、架台31と間隙部10bとの水平位置関係を規制可能な固定金具20L、20Rとからなり、架台31が固定金具20L、20Rに着脱自在に取付けられ、間隙部10b両側の建物基礎上面10dと仮基礎11の上面34とを略面一に設定可能になされ、架台31と固定金具20L、20Rが建物基礎に建物を据え付けた後で取り外し可能になされていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
建物基礎の上面を不連続とする間隙部に取り付けられる仮基礎であって、高さを調整可能な架台と、架台と間隙部との水平位置関係を規制可能な固定金具とからなり、架台が固定金具に着脱自在に取付けられ、間隙部両側の建物基礎上面と仮基礎上面とを略面一に設定可能になされ、架台と固定金具が建物基礎に建物を据え付けた後で取り外し可能になされていることを特徴とする仮基礎。
IPC (3件)：
E04G 21/14 ,  E02D 27/01 ,  E04B 1/348
FI (4件)：
E04G 21/14 ,  E02D 27/01 Z ,  E04B 1/348 W ,  E04B 1/348 F
引用特許：
審査官引用 (3件)

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