マスクレスの半導体及び液晶ディスプレイ検査方法及び装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村稔 (外9名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-501474
公開番号（公開出願番号）：特表2001-509618
出願日： 1998年07月01日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
要約：

【要約】像のプリミティブをベースとするマスクレス半導体ウェハ及び液晶ディスプレイパネルの検査は、ウェハパターンを特徴付けることにより行なわれる。潜在的な欠陥(212)は、一般的なパターン表面構造の規定に対する例外として検出される。ウェハ又はLED構造は、1組のプリミティブ特徴付けモジュール(210,220,230)の多数のプロファイルへとエンコードされる。プリミティブプロファイルは、比較のために像を整列させた状態で潜在的欠陥と相関される。

請求項（抜粋）：

半導体表面を検査する方法であって、半導体表面ウェハは、第1表面成分及び第2表面成分を有し、上記方法は、 (a)第1表面成分及び第2表面成分の像(102)を得、 (b)第1表面成分の欠陥検出に対して第1のマルチモジュールマスクレスプリミティブ特徴付け(110)を実行し、 (c)第2表面成分の欠陥検出に対して第2のマルチモジュールマスクレスプリミティブ特徴付け(112)を実行し、そして (d)第1のマルチモジュールマスクレスプリミティブ特徴付けと第2のマルチモジュールマスクレスプリミティブ特徴付けとの間の相関(120)を実行する、という段階を備えたことを特徴とする方法。

IPC (6件)：

G06T 7/00 , G01B 11/30 , G01M 11/00 , G01N 21/956 , G01N 21/958 , H01L 21/66

FI (7件)：

G01B 11/30 A , G01M 11/00 T , G01N 21/956 A , G01N 21/958 , H01L 21/66 J , H01L 21/66 Z , G06F 15/62 405 A

Fターム (58件)：

2F065AA03 , 2F065AA20 , 2F065AA21 , 2F065AA49 , 2F065CC19 , 2F065CC25 , 2F065FF04 , 2F065FF15 , 2F065FF41 , 2F065FF67 , 2F065GG21 , 2F065MM02 , 2F065QQ00 , 2F065QQ21 , 2F065QQ25 , 2F065QQ26 , 2F065QQ27 , 2F065QQ28 , 2F065QQ33 , 2F065QQ41 , 2F065QQ42 , 2F065QQ43 , 2F065RR01 , 2F065RR05 , 2F065RR06 , 2F065SS03 , 2F065SS11 , 2F065TT01 , 2F065TT02 , 2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051EA08 , 2G051EA11 , 2G051EA12 , 2G051EB01 , 2G051EB02 , 2G051EC02 , 2G051EC03 , 2G051EC06 , 2G086EE10 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106BA04 , 4M106BA07 , 4M106BA08 , 4M106CA38 , 4M106DB01 , 4M106DB07 , 4M106DB11 , 4M106DB19 , 4M106DJ11 , 4M106DJ20 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057CE06 , 5B057DA03 , 5B057DC34 , 5B057DC40

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