特許

J-GLOBAL ID：200903095692408361

複数カム同時焼入装置

発明者： 渡邊 日吉 ,  中村 立美
出願人/特許権者： 富士電子工業株式会社
代理人 (1件)： 大西 孝治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-020417
公開番号（公開出願番号）：特開2001-214219
出願日： 2000年01月28日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 位相の異なる複数のカムが形成されたカムシャフトであっても、各カムにとって最適な高周波焼入を施す。【構成】 吸気側カムWA1の周面を加熱する加熱導体部111が円形の3つの吸気側用加熱コイル110と、排気側カムWA2の周面を加熱する加熱導体部121が円形の2つの排気側用加熱コイル120と、吸気側用加熱コイル110に電流を供給する吸気側用トランス130と、排気側用加熱コイル120に電流を供給する排気側用トランス140と、吸気側用加熱コイル110の加熱導体部111の中心と吸気側カムWA1の中心W0とをずらせ、排気側用加熱コイル120の加熱導体部121の中心と排気側カムWA2の中心W0とをずらせた状態で、両加熱コイル110、120を両カムWA1、WA2の中心W0を中心とした公転運動をさせる駆動機構150と、加熱された両カムWA1、WA2を冷却する冷却機構とを備える。

請求項（抜粋）：

位相の異なる複数種類のカムが形成されたカムシャフトのカムの周面を同時に高周波焼入する複数カム同時焼入装置において、前記カムの周面を加熱する加熱導体部が円形の複数個の加熱コイルと、この加熱コイルに電流を供給するトランスと、前記加熱コイルの加熱導体部の中心と前記カムの中心とをずらせた状態で、前記加熱コイルをカムを中心とした公転運動をさせる駆動機構と、加熱されたカムを冷却する冷却機構とを具備しており、前記加熱コイルは、位相を同じくするものが同一のトランスから電流が供給されることを特徴とする複数カム同時焼入装置。

IPC (2件)：

C21D 9/30 ,  C21D 1/10

FI (3件)：

C21D 9/30 B ,  C21D 9/30 A ,  C21D 1/10 R

Fターム (7件)：

4K042AA17 ,  4K042BA03 ,  4K042BA10 ,  4K042DA01 ,  4K042DB01 ,  4K042EA01 ,  4K042EA02