特許
J-GLOBAL ID：200903095699259264
膜厚モニタを用いてウェハ特性を決定する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-113229
公開番号（公開出願番号）：特開平11-008279
出願日： 1998年04月23日
公開日（公表日）： 1999年01月12日
要約：
【要約】【課題】 膜厚モニタを使用してウェハ上に形成された膜の表面品質等ウェハ特性を決定する【解決手段】 一実施形態でこの方法は、次のステップを含んでいる。すなわち、パラメータのセットを選択し、次に計算スペクトルを発生するために使用するステップ。実測スペクトルを計算スペクトルと比較して、2つのスペクトルが一致しているか否かを決定するステップ。2つのスペクトルが一致していないか或いは2つのスペクトル間の非一致の度合いが許容誤差値よりも大きいならば、処理ウェハについて欠陥があるであろう。例えば、ウェハ上に形成された膜が、非均一であり或いは曇っているといった表面品質を有している可能性がある。
請求項（抜粋）：
ウェハについての実測スペクトルを発生するステップと、計算スペクトルを発生するステップと、前記実測スペクトルが前記計算スペクトルと一致している否かを決定するステップと、前記ウェハが欠陥を有していることを決定するステップと、を含むコンピュータに実行される方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/66 J
, H01L 21/66 Z
, G01B 11/24 C
