耐熱性ポジ型フオトレジスト組成物

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-065634
公開番号（公開出願番号）：特開平5-005992
出願日： 1991年03月05日
公開日（公表日）： 1993年01月14日
要約：

【要約】【目的】感光性を有するポリイミド前駆体がいかなる構造であっても、充分に対応でき、しかも感度や解像度に優れた耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】酸またはアルカリ条件下にて脱離可能な保護基にてカルボキシル基を保護したポリイミド前駆体と、活性光線の照射にて上記保護基の脱離反応を誘発できる化合物とを含有してなる組成物である。このような化合物としては光分解性プロトン発生剤が用いられる。

請求項（抜粋）：

下記(化1)にて示される構造単位を有するポリイミド前駆体と、【化1】(但し、(化1)中の矢印の結合は異性化によって置換可能な結合を示し、R1 およびR2 はそれぞれ4価および2価の芳香族または脂肪族炭化水素残基、R3 およびR4 は水素原子または有機基であって、少なくとも一方の基は酸またはアルカリ条件下で脱離可能な保護基である。)活性光線の照射によりポリイミド前駆体中の保護基の脱離反応を誘発しうる化合物、とを含有してなる耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/027 514 , G03F 7/029 , H01L 21/027

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