特許
J-GLOBAL ID：200903095709856738
高周波誘導結合プラズマ質量分析方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-317647
公開番号（公開出願番号）：特開2001-133439
出願日： 1999年11月09日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：
【要約】【課題】高分解能SIM測定において、MSの磁場強度の較正を行なうに当たり、測定したい目的イオンと同じイオンを含む標準試料を用いることなく磁場強度の較正を行なえるICP-MS方法及び装置を提供する。【解決手段】目的イオンの信号位置を決定するための予備測定と、決定された目的イオンの信号位置の情報に基づいて、該目的イオンが選択的に検出されるように装置条件を設定して、目的イオンの高分解能SIM測定を行なう本測定とから成るICP-MS方法であって、前記予備測定には、プラズマ中に存在する精密質量数既知の干渉イオンの質量スペクトルを測定する工程と、該干渉イオンの質量スペクトルピークの位置を特定する工程と、特定した位置とその精密質量数に基づいて目的イオンの信号出現位置を決定する工程とを含む。尚、前記干渉イオンとは、NH+、CO+、NO+、ArH+、ArC+、ArN+、ArO+、ArCl+、Ar2+などのことである。
請求項（抜粋）：
高周波誘導結合プラズマ質量分析装置を用いた質量分析方法であって、目的イオンの信号位置を決定するための予備測定と、決定された目的イオンの信号位置の情報に基づいて、該目的イオンが選択的に検出されるように装置条件を設定して、目的イオンの高分解能SIM測定を行なう本測定とから成り、前記予備測定が、プラズマ中に存在する精密質量数既知の干渉イオンの質量スペクトルを測定する工程と、該干渉イオンの質量スペクトルピークの位置を特定する工程と、特定した位置とその精密質量数に基づいて目的イオンの信号出現位置を決定する工程とから成ることを特徴とする高周波誘導結合プラズマ質量分析方法。
FI (3件)：
G01N 27/62 H
, G01N 27/62 D
, G01N 27/62 E
