特許
J-GLOBAL ID:200903095712891080

ジシラン含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法並びに表面処理剤及び結合剤

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小島 隆司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-143816
公開番号(公開出願番号):特開平7-330908
出願日: 1994年06月02日
公開日(公表日): 1995年12月19日
要約:
【要約】【構成】 下記平均組成式(1)で示されるジシラン含有オルガノポリシロキサン。〔R<SP>1</SP><SB>a</SB>Si(OR<SP>2</SP>)<SB>b</SB>O<SB>(4-a-b)/2</SB>〕<SB>m</SB>〔R<SP>1</SP><SB>c</SB>Si<SB>2</SB>(OR<SP>2</SP>)<SB>d</SB>O<SB>(6-c-d)/2</SB>〕<SB>n</SB> ...(1)(但し、R<SP>1</SP>及びR<SP>2</SP>はそれぞれ水素原子又は置換もしくは非置換の一価炭化水素基である。a,b,c及びdは、0≦a≦2、0≦b≦3、0≦c≦3、0<d<6で、0≦a+b<4、0<c+d<6を満たす整数であり、mは0≦m≦0.9、nは0.1≦n≦1で、m+n=1を満たす正数である。)【効果】 本発明のジシラン含有オルガノポリシロキサンは、硬化性官能基を有するため、低い温度での造膜化が可能であり、硬度も高く、更に高温時での体積収縮によるクラックが発生せず、耐熱性が良好である。このため、無機物材料に対する表面処理剤、結合剤として有効に使用することができる。
請求項(抜粋):
下記平均組成式(1)で示されるジシラン含有オルガノポリシロキサン。〔R<SP>1</SP><SB>a</SB>Si(OR<SP>2</SP>)<SB>b</SB>O<SB>(4-a-b)/2</SB>〕<SB>m</SB>〔R<SP>1</SP><SB>c</SB>Si<SB>2</SB>(OR<SP>2</SP>)<SB>d</SB>O<SB>(6-c-d)/2</SB>〕<SB>n</SB> ...(1)(但し、R<SP>1</SP>及びR<SP>2</SP>はそれぞれ水素原子又は置換もしくは非置換の一価炭化水素基である。a,b,c及びdは、0≦a≦2、0≦b≦3、0≦c≦3、0<d<6で、0≦a+b<4、0<c+d<6を満たす整数であり、mは0≦m≦0.9、nは0.1≦n≦1で、m+n=1を満たす正数である。)
IPC (4件):
C08G 77/48 NUM ,  C03C 25/02 ,  C04B 41/84 ,  C09D183/14 PMM
引用特許:
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る