特許

J-GLOBAL ID：200903095718669932

プラズマ処理装置

発明者： 山崎 修 ,  藤本 茂 ,  菅井 秀郎 ,  山華 雅司
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-238407
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087098
出願日： 1997年09月03日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】 処理容器の内壁面への付着物の付着を防止し、また内壁面に付着した活性種が再びプラズマへ戻るのを防止するプラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】 処理容器21の内壁の少なくとも一部をプラズマ雰囲気から保護する遮蔽手段を有するプラズマ処理装置20において、上記遮蔽手段28,29の少なくとも一部は、上記処理容器21内への被処理物25搬入或いは搬出の際、搬入路或いは搬出路を確保するために移動する構成であることを特徴としている。

請求項（抜粋）：

処理容器の内壁の少なくとも一部をプラズマ雰囲気から保護する遮蔽手段を有するプラズマ処理装置において、上記遮蔽手段の少なくとも一部は、上記処理容器内への被処理物搬入或いは搬出の際、搬入路或いは搬出路を確保するために移動する構成であることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/44 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31

FI (6件)：

H05H 1/46 M ,  C23C 16/44 J ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 C