特許
J-GLOBAL ID：200903095720765469
EUV露光装置及び半導体デバイスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-061167
公開番号（公開出願番号）：特開2004-273673
出願日： 2003年03月07日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：
【課題】コストの上昇を伴うことなく、収差測定が可能なEUV露光装置を提供する。【解決手段】(ア)のように収差の無い状態では、その下段に示すように収差測定用開口(I)と(II)とで出力の差はないが(収差測定用開口パターン位置が反転しているので反転しているように描かれている)、(イ)のような状態では、その下段に示すように収差測定用開口(I)と(II)とでEUVセンサの出力に差が出るので、収差測定用開口(I)と(II)の信号の出力差(図で一方の左右を反転したもの同士の出力差)を収差量として評価することができる。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
投影光学系により、マスクに形成されたパターンを感応基板上に露光転写するEUV露光装置であって、前記投影光学系の収差を測定する空間像センサを有し、当該空間像センサは、物面に配置されたパターンの投影像を像面に配置されたスリット状の開口を持つEUVセンサの前記スリット状の開口上に投影させて前記EUVセンサの出力を計測することにより、前記投影光学系の収差を測定するものであり、前記物面に配置されたパターンは、平行に配列された複数本の細長い矩形状のスリットからなり、前記像面に配置されたスリット状の開口は平行に配列された複数本の矩形状のスリットからなり、前記物面に配置されたパターンと前記像面に配置されたスリット状の開口の少なくとも一方において、複数本のスリットの最も外側のスリットの幅が、互いに異なっていることを特徴とするEUV露光装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L21/30 516A
, G03F7/20 503
, G03F7/20 521
, H01L21/30 531A
2H097CA15
, 2H097LA10
, 5F046DA13
, 5F046DB05
, 5F046GA03
, 5F046GA14
, 5F046GB03
