特許
J-GLOBAL ID：200903095722250644
新規なビスフェノール誘導体とその製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
門多 透
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-196557
公開番号（公開出願番号）：特開平5-170702
出願日： 1991年08月06日
公開日（公表日）： 1993年07月09日
要約：
【要約】【構成】 下記式 [I]で示されるビスフェノール誘導体。(式中RはH,メチル基、Aは炭素数1〜2のアルキレン基、Bは単結合,酸素,R1 CR2 ,CR3 ,S,SO2 ,SO基、R1 ,R2 はH,メチル,エチル,フェニル,ジフェニル基、R3 は炭素数3〜12のアルキレン,シクロアルキレン,ジフェニレン基、Xはメチル,フッ素を除くハロゲン基、l,mは0〜4の整数を示す。)【効果】 この誘導体は(メタ) アリル重合により緩やかに重合し、注型重合の制御が容易である。得られたポリマーは歪が少なく、透明性が高く高屈折率で低分散な光学用樹脂として有用である。【化1】
請求項（抜粋）：
下記一般式 [I]で示されるビスフェノール誘導体。【化1】(式中Rは、水素原子またはメチル基を示し、Aは炭素数が1〜2の直鎖または分岐のアルキレン基を示す。Bは、【化2】で表される二官能性基であって、R1 ,R2 はそれぞれ水素原子,メチル基,エチル基,フェニル基,ジフェニル基を示し、同一であっても異なっていても良く、R3 は炭素数3〜12のアルキレン基,シクロアルキレン基あるいはジフェニレン基を示す。Xは、メチル基またはフッ素原子を除くハロゲン原子であって、lおよびmはそれぞれ0〜4の整数を示す。)
IPC (10件)：
C07C 69/712
, C07C 67/08
, C07C 67/10
, C07C 67/293
, C07C 67/31
, C07C317/22
, C07C323/20
, G02B 1/04
, C08F 18/16 MLL
, C08F 18/20
