光反射性基板の製造方法および液晶表示素子

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大原拓也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-092855
公開番号（公開出願番号）：特開2001-166286
出願日： 2000年03月30日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：

【要約】【課題】化学エッチングによっても、ほとんどうねりが生じない光反射性基板を得る。【解決手段】反射型もしくは半透過型の液晶表示素子用の基板としてダウンドロー法により製造された硼珪酸ガラス21を用い、この硼珪酸ガラス21に化学エッチングを施して微細な凹凸を有する光拡散面21aを形成する。

請求項（抜粋）：

反射型もしくは半透過型の液晶表示素子の一方の基板として用いられる光反射性基板の製造方法において、ダウンドロー法により得られた硼珪酸ガラスの一方の面を化学エッチング液により微細な凹凸を有する粗面とし、その粗面上に光反射膜を形成することを特徴とする光反射性基板の製造方法。

IPC (4件)：

G02F 1/1333 500 , G02B 5/02 , G02F 1/1335 520 , G09F 9/30 349

FI (4件)：

G02F 1/1333 500 , G02B 5/02 C , G02F 1/1335 520 , G09F 9/30 349 D

Fターム (33件)：

2H042BA04 , 2H042BA15 , 2H042BA20 , 2H090HC12 , 2H090JA02 , 2H090JB02 , 2H090JD01 , 2H090KA05 , 2H090KA08 , 2H090LA15 , 2H091FA02Y , 2H091FA14Y , 2H091FB02 , 2H091FB08 , 2H091FC26 , 2H091GA01 , 2H091HA07 , 2H091HA10 , 2H091LA30 , 5C094AA03 , 5C094BA03 , 5C094BA43 , 5C094BA45 , 5C094CA19 , 5C094CA24 , 5C094EA04 , 5C094EA05 , 5C094EA07 , 5C094EB02 , 5C094EB04 , 5C094ED03 , 5C094ED11 , 5C094JA08

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