特許

J-GLOBAL ID：200903095737154170

スパッタリング用ITOターゲット

発明者： 田中 裕之 ,  名手 達夫 ,  遠藤 忍 ,  古山 晃一
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社 ,  株式会社豊島製作所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-219203
公開番号（公開出願番号）：特開平7-054133
出願日： 1993年08月12日
公開日（公表日）： 1995年02月28日
要約：

【要約】【目的】 表面における黒化の発生を抑制することが可能なスパッタリング用ITOターゲットを提供する。【構成】 酸化インジウムと酸化錫を主成分とした焼結体であって、0.1〜3重量%(CeO2 換算)の酸化セリウムを含有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

酸化インジウムと酸化錫を主成分とした焼結体であって、0.1〜3重量%(CeO2 換算)の酸化セリウムを含有することを特徴とするスパッタリング用ITOターゲット。