特許

J-GLOBAL ID：200903095750042704

基板の表面処理装置

発明者： 田中 真人 ,  藤川 和憲 ,  村岡 祐介
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-294766
公開番号（公開出願番号）：特開平7-130698
出願日： 1993年10月29日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：

【要約】【目的】 最終リンス処理が終わってから乾燥処理が終了するまでの間、基板が大気に触れないようにし、基板表面へのパーティクル付着やガス吸着を無くして歩留りの低下を防ぐ。【構成】 最終リンス処理部と最終リンス処理された基板の表面を乾燥させる乾燥処理部とを一体のリンス・乾燥処理装置30により構成する。リンス・乾燥処理装置を、リンス槽36の上方空間を密閉チャンバ40で閉鎖的に包囲して構成し、リンス槽内に収容された純水44中に浸漬されて最終リンス処理され純水中から引き上げられた基板Wを、密閉チャンバ内へ有機溶剤の蒸気を供給し密閉チャンバ内を減圧することにより乾燥処理する。

請求項（抜粋）：

所要の洗浄用薬液を収容し、その薬液中に基板を浸漬させることにより所要の洗浄処理を行なう、少なくとも1つの薬液洗浄槽と、この薬液洗浄槽で洗浄処理され必要に応じて純水で洗浄処理された基板の表面に純水を供給し、基板を最終的にリンス処理する最終リンス処理部と、この最終リンス処理部で最終的にリンス処理された基板の表面を乾燥させる乾燥処理部と、装置内での基板の搬送を行なう基板搬送ロボットとを備えてなる基板の表面処理装置において、前記最終リンス処理部と前記乾燥処理部とを、純水を供給するための純水供給口を底部に有するとともに純水を越流させるための越流部を上部に有し、内部に純水を収容してその純水中に基板が浸漬されるようにするリンス槽と、このリンス槽内へ前記純水供給口を通して常時純水を供給する純水供給手段と、前記リンス槽の前記越流部より溢れ出た純水が流れ込む溢流水受け部と、この溢流水受け部から純水を排出する排水手段と、前記リンス槽の上方位置とリンス槽内部位置との間で基板を昇降移動させる基板昇降手段と、有機溶剤の蒸気を供給するための蒸気供給口を有し、前記リンス槽及び前記溢流水受け部の上方空間を閉鎖的に包囲する密閉チャンバと、この密閉チャンバ内を排気して減圧する排気手段と、前記密閉チャンバ内へ蒸気供給口を通して有機溶剤の蒸気を供給する蒸気供給手段とを備えた一体のリンス・乾燥処理装置により構成したことを特徴とする基板の表面処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/68

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ワーク洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-172223   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 特開平4-080924
  
• 特開平1-226157
  
• 特開平4-251930