特許

J-GLOBAL ID：200903095761050709

パターン形成用マスクおよびその洗浄方法

発明者： 山崎 亨
出願人/特許権者： 株式会社SUMCO
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-061168
公開番号（公開出願番号）：特開2007-238996
出願日： 2006年03月07日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：

【課題】繰り返し使用後にマスク上に付着した金属等を容易に除去することができ、高精度でパターンを形成することが可能なパターン形成用マスクを提供すること。【解決手段】被処理物上に形成すべきパターンに対応した開口を有するマスキング部材と、該マスキング部材の開口を除く表面の少なくとも一部を覆うように配置された防着部材とを有するパターン形成用マスク。前記マスキング部材は、少なくとも、前記開口の内壁に、酸溶液、アルカリ溶液、および有機溶剤からなる群から選ばれる少なくとも一種の液体に溶解し得る材質からなる皮膜を有する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

被処理物上に形成すべきパターンに対応した開口を有するマスキング部材と、該マスキング部材の開口を除く表面の少なくとも一部を覆うように配置された防着部材とを有するパターン形成用マスクであって、 前記マスキング部材は、少なくとも、前記開口の内壁に、酸溶液、アルカリ溶液、および有機溶剤からなる群から選ばれる少なくとも一種の液体に溶解し得る材質からなる皮膜を有する、前記パターン形成用マスク。

IPC (3件)：

C23C 14/04 ,  C23C 14/24 ,  B08B 3/08

FI (3件)：

C23C14/04 A ,  C23C14/24 G ,  B08B3/08 Z

Fターム (9件)：

3B201AA02 ,  3B201BB94 ,  3B201BB95 ,  3B201BB96 ,  4K029BA03 ,  4K029BB03 ,  4K029CA01 ,  4K029DB03 ,  4K029HA01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特公平6-74498号公報