特許

J-GLOBAL ID：200903095766087856

ディスク原盤製造装置

発明者： 千葉 幸也 ,  有馬 光雄 ,  湯田 仁 ,  三浦 佳久 ,  石川 義広 ,  本宿 欣巳 ,  佐藤 学
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-192206
公開番号（公開出願番号）：特開平9-044912
出願日： 1995年07月27日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【課題】 被露光領域を直接モニタして信号特性を高精度に制御し生産性を向上させることができるディスク原盤製造装置を提供する。【解決手段】 回転中心部が中空状態であるとともに、レジストを塗布し露光後のガラス基板1を外周部にて支持する回転機構部2と、上記回転機構部2に回転力を与える回転モータ3と、上記回転機構部2の外周部に載置されたガラス基板1上へ現像液を供給する際に供給位置を制御するノズル回動モータ4と、上記ノズル回動モータ4から供給される現像液によるディスク原盤の現像の進行状態をモニタするモニタ光源であるレーザ光発生部5と、上記レーザ光発生部5からの出射光が上記ガラス基板1の被露光領域を通過した透過光を検出する光ディテクタ6と、上記光ディテクタ6からの出力信号に応じて上記回転モータ3及び上記ノズル回動モータ4の動作を制御する制御部7とを備え、上記レーザ光発生部5と上記光ディテクタ6とは、一体的に構成されるものである。

請求項（抜粋）：

レジストが塗布されたガラス基板を露光させた後、このガラス基板を載置し回転させながら現像して、ディスク原盤を製造するディスク原盤製造装置において、回転中心部が中空状態であるとともに、露光後のガラス基板を外周部にて支持する回転機構部と、上記回転機構部に回転力を与える回転駆動手段と、上記回転機構部の外周部に載置されたガラス基板上へ現像液を供給する際に供給位置を制御する現像液供給位置制御手段と、上記現像液供給位置制御手段から供給される現像液によるディスク原盤の現像の進行状態をモニタするモニタ光源と、上記モニタ光源からの出射光が上記ガラス基板の被露光領域を通過した透過光を検出する光検出手段と、上記光検出手段からの出力信号に応じて上記回転駆動手段及び上記現像調整手段の動作を制御する制御手段とを備え、上記モニタ光源と上記光検出手段とは、一体的に構成されることを特徴とするディスク原盤製造装置。