プラズマCVD装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小杉佳男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-156670
公開番号（公開出願番号）：特開平5-009741
出願日： 1991年06月27日
公開日（公表日）： 1993年01月19日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】プラズマCVD装置を用いて、段差のあるウエハに成膜する場合に、段差の側壁部に良質の成膜を得る。【構成】対向電極1,2に高周波電圧3を印加してプラズマ4を発生させ、電界用電極5,6を設けることによって、プラズマ4の移送方向を曲げる。電界用電極5,6は対向電極1,2の周囲を回転する。

請求項（抜粋）：

プラズマ発生用対向電極の対向方向に直交する方向に、プラズマ粒子に運動を与える電界用電極を設けたことを特徴とするプラズマCVD装置。

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