ホスフェート処理珪酸塩蛍光体

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：倉内基弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-272881
公開番号（公開出願番号）：特開2001-089761
出願日： 2000年09月08日
公開日（公表日）： 2001年04月03日
要約：

【要約】【課題】蛍光ランプにおいて使用したときに未処理蛍光体と比較して向上したルーメン保守率を示す新規なホスフェート処理珪酸塩蛍光体を提供する。【解決手段】 1つの面では、蛍光体をホスフェート水溶液中で処理し、ろ過しそしてアニーリングすることによってホスフェート含有保護表面層を形成する。特に、この態様で処理されたBaSi2O5:Pb蛍光体は、蛍光ランプにおける向上した保守率、及びホスフェート含有保護表面層の存在を立証する特有のX-線回折図を示す。

請求項（抜粋）：

ホスフェート含有保護表面層を有するホスフェート処理珪酸塩蛍光体。

IPC (3件)：

C09K 11/59 CPB , C09K 11/08 , H01J 61/44

FI (3件)：

C09K 11/59 CPB , C09K 11/08 G , H01J 61/44 M

引用特許：

審査官引用 (8件)

真空紫外線励起発光蛍光体およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-128077 出願人：日亜化学工業株式会社
特開昭63-199787
特開昭48-016885

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