回転式塗布装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福島祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-181837
公開番号（公開出願番号）：特開平9-029158
出願日： 1995年07月18日
公開日（公表日）： 1997年02月04日
要約：

【要約】【課題】塗布液の使用量を節減しながら基板表面に均一な塗布膜を形成することができる回転式塗布装置を提供することである。【解決手段】基板1を吸引して保持する基板載置台2の上方に二流体ノズルからなるスプレーノズル4を配設する。基板載置台2とスプレーノズル4との間の空間はカップ5により密閉状態とする。溶剤蒸気供給源8から供給される溶剤蒸気をカップ5内に注入し、カップ5内を溶剤蒸気の雰囲気とする。スプレーノズル4の一方の注入口4aに溶剤蒸気供給源8から供給される溶剤蒸気を注入し、他方の注入口4bに塗布液供給源9から供給される塗布液を注入することにより、噴射口4cから溶剤蒸気とともに塗布液を霧状に噴射して基板1上に分散塗布する。

請求項（抜粋）：

塗布室内で基板を回転させて前記基板上に塗布液の被膜を形成する回転式塗布装置において、前記基板上に前記塗布液を霧状に噴射するスプレーノズルを前記塗布室内に配設するとともに、前記スプレーノズルと前記基板との間の空間に溶剤蒸気を供給する溶剤蒸気供給手段を設けたことを特徴とする回転式塗布装置。

IPC (3件)：

B05C 11/08 , B05D 1/02 , H01L 21/027

FI (3件)：

B05C 11/08 , B05D 1/02 , H01L 21/30 564 C

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