特許

J-GLOBAL ID：200903095787347769

ステージ装置および塗布処理装置

発明者： 稲益 寿史 ,  山▼崎▲ 剛 ,  宮▼崎▲ 一仁
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-015564
公開番号（公開出願番号）：特開2006-199483
出願日： 2005年01月24日
公開日（公表日）： 2006年08月03日
要約：

【課題】吸気圧力の変動が小さいステージ装置と、このステージ装置を備えた塗布処理装置を提供する。【解決手段】 レジスト塗布装置23aは、基板Gを浮上搬送するためのステージ200を有するステージ装置12と、ステージ200上で基板GをX方向に搬送する基板搬送機構13と、ステージ200上で浮上搬送される基板Gの表面にレジスト液を供給するレジスト供給ノズル14を備えている。ステージ200は、小ステージ201a〜203a・201b〜203bから構成され、小ステージ202a・202bでは、ガス噴射口16aと吸気口16bを、基板GのX方向先端が同時に所定数の吸気口16bを覆うことがなく、かつ、基板GのX方向後端が同時に所定数の吸気口16bを大気開放させることがないように、Y方向に対して角度θだけずれた方向に所定の間隔で設けた。【選択図】 図5

請求項（抜粋）：

矩形の基板をステージ上で浮上搬送するためのステージ装置であって、 前記ステージは、その表面から一定の高さに矩形の基板を略水平姿勢で浮上させるための複数のガス噴射口および複数の吸気口を備え、 矩形の基板をその一対の辺が搬送方向と略平行で他の一対の辺が搬送方向と略直交するように前記ステージ上で浮上搬送する際に、前記吸気口の吸気圧力変動が分散するように、前記複数の吸気口は、前記基板の搬送方向先端が同時に所定数の吸気口を覆うことがなく、かつ、前記基板の搬送方向後端が同時に所定数の吸気口を大気開放させることがないように、前記ステージに設けられていることを特徴とするステージ装置。

IPC (4件)：

B65G 49/06 ,  B05C 13/02 ,  H01L 21/677 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

B65G49/06 Z ,  B05C13/02 ,  H01L21/68 A ,  H01L21/30 564Z

Fターム (34件)：

4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042AB00 ,  4F042BA06 ,  4F042DF10 ,  4F042DF15 ,  4F042DF29 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031DA17 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA14 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA42 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA51 ,  5F031GA53 ,  5F031GA63 ,  5F031HA48 ,  5F031HA57 ,  5F031HA60 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA30 ,  5F031PA30 ,  5F046JA27

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 塗布膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-331663   出願人：東京エレクトロン株式会社