特許
J-GLOBAL ID:200903095792337461

炭化水素基質の接触部分酸化方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 江崎 光史 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-310858
公開番号(公開出願番号):特開平10-245201
出願日: 1997年11月12日
公開日(公表日): 1998年09月14日
要約:
【要約】【課題】 化学量論量の酸素を用いて炭化水素供給ガスを接触部分酸化することによって水素/一酸化炭素含有合成ガスを製造する方法を提供する。【解決手段】 工程が複数の連続した別々の段階からなっており、それぞれの段階において、化学量論量の酸素の少量の画分を炭化水素供給ガスに添加し、そして次いで供給ガスを触媒帯域に流し、そして少量の供給ガスとの反応によって添加された量の酸素をそれぞれの段階において実質的に完全に変換する。
請求項(抜粋):
化学量論量の酸素を用いて炭化水素供給ガスを接触部分酸化することによって水素/一酸化炭素含有合成ガスを製造する方法において、工程が複数の連続した別々の段階からなっており、それぞれの段階において、化学量論量の酸素の少量の画分を炭化水素供給ガスに添加し、そして次いで供給ガスを触媒帯域に流し、そして少量の供給ガスとの反応によって添加された量の酸素をそれぞれの段階において実質的に完全に変換することを特徴とする上記方法。
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭49-044002
  • 特公昭45-026602
  • 特開昭49-044002
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