特許
J-GLOBAL ID：200903095792571367
垂直伝搬型光導波路及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-117065
公開番号（公開出願番号）：特開2002-311270
出願日： 2001年04月16日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：
【要約】【課題】 コア層内の任意の位置に高寸法精度・高角度精度で45°の反射面を容易に形成でき、しかも高効率な光結合特性を有する垂直伝搬型光導波路及びその製造方法を提供することにある。【解決手段】 基板2上に、光が伝搬するコア層4cとそのコア層4cを覆うクラッド層3,5とからなる光導波路を形成した垂直伝搬型光導波路1において、上記コア層4cを紫外線照射によって屈折率が低下するポリマ材料で形成し、光導波路1の上方より、コア層4cの光軸に対して略45°傾いた方向から線状ビーム形状の紫外線レーザ光を照射することにより、コア層4c内に略45°の低屈折率の反射面6を形成し、その反射面6に入射される信号光を略垂直に反射させるものである。
請求項（抜粋）：
基板上に、光が伝搬するコア層とそのコア層を覆うクラッド層とからなる光導波路を形成した垂直伝搬型光導波路において、上記コア層を紫外線照射によって屈折率が低下するポリマ材料で形成し、光導波路の上方より、コア層の光軸に対して略45°傾いた方向から線状ビーム形状の紫外線レーザ光を照射することにより、コア層内に略45°の低屈折率の反射面を形成し、その反射面に入射される信号光を略垂直に反射させることを特徴とする垂直伝搬型光導波路。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 B
, G02B 6/12 M
2H047KA04
, 2H047KA15
, 2H047LA14
, 2H047MA07
, 2H047PA17
, 2H047PA22
, 2H047QA05
