全反射型蛍光X線分析方法及び分析装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：薄田利幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-023479
公開番号（公開出願番号）：特開平6-118034
出願日： 1991年02月18日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：

【要約】【目的】従来と同等の出力のX線源を用いても、X線分光光学系を改良することにより試料に照射されるX線の強度を実質的に増大し、検出感度の高い全反射型蛍光X線分析方法及び装置を実現する。【構成】試料に照射するX線ビ-ムを複数個準備すると共に、これら各々のX線ビ-ムをX線モノクロメ-タ-を用いて単色化し、これらを試料上で交差させて照射する。具体的なX線照射増大法としては、X線源2で発生したX線を複数の取り出し口から透過窓4を通して複数個取り出し、これらX線ビ-ムをスリット5を通して、湾曲型分光結晶6に入射させる。この分光結晶6の凹面部で回折されたX線ビ-ム3は、波長λのみからなるX線ビ-ム7となり、スリット8を通して収束点9に向かう。収束点9を通過した後、X線ビ-ム7と同様な経路を通過してきたもう一方のX線ビ-ム10と交差し、この交差部分のX線強度を実質的に増大する。

請求項（抜粋）：

試料表面でX線を全反射させ、蛍光X線検出器に入射する散乱X線量を減少させることにより、試料表面の微量物質を分析する全反射型蛍光X線分析方法において、前記試料に照射するX線ビ-ムを複数個準備すると共に、前記各X線ビ-ムをX線モノクロメ-タ-を用いてそれぞれ単色化し、前記試料上で交差させて照射する段階を有して成る全反射型蛍光X線分析方法。

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