特許
J-GLOBAL ID:200903095805934634

薄膜デバイスおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤島 洋一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-274062
公開番号(公開出願番号):特開2001-102523
出願日: 1999年09月28日
公開日(公表日): 2001年04月13日
要約:
【要約】【課題】製造工程におけるスループットを向上させることができる薄膜デバイスおよびその製造方法を提供する。【解決手段】第1のデバイス層20の裏面に裏面支持基板17を接着することにより第1のデバイスユニット2を形成する。第2のデバイス層40の表面に表面支持基板36を接着することにより第2のデバイスユニット4を形成する。第1のデバイスユニット2および第2のデバイスユニット4を、第1のデバイス層20と第2のデバイス層40が互いに対向するように貼り合わせることによって、第1のデバイス層20および第2のデバイス層40を備えた薄膜デバイス1を製造する。第1のデバイス層20および第2のデバイス層40は、第1のデバイスユニット2と第2のデバイスユニット4の製造工程においてそれぞれ個別に形成されるので、複数のデバイス層を順次積層形成する場合のようにデバイス層の形成方法が限定されない。
請求項(抜粋):
複数のデバイス層を備えた薄膜デバイスの製造方法であって、デバイス層を支持基板により支持してなる複数のデバイスユニットを形成する工程と、前記複数のデバイスユニットを組み合わせて薄膜デバイスを形成する工程とを含むことを特徴とする薄膜デバイスの製造方法。
IPC (5件):
H01L 27/00 301 ,  H01L 27/12 ,  H01L 31/02 ,  H01L 31/12 ,  H01L 33/00
FI (5件):
H01L 27/00 301 B ,  H01L 27/12 B ,  H01L 31/12 C ,  H01L 33/00 N ,  H01L 31/02 A
Fターム (24件):
5F041AA41 ,  5F041DA03 ,  5F041DA09 ,  5F041DA11 ,  5F041DA20 ,  5F088BA18 ,  5F088CB01 ,  5F088CB20 ,  5F088EA06 ,  5F088EA11 ,  5F088EA16 ,  5F088EA20 ,  5F088FA01 ,  5F088GA04 ,  5F088GA09 ,  5F088GA10 ,  5F088JA03 ,  5F089AB03 ,  5F089AC08 ,  5F089AC09 ,  5F089AC10 ,  5F089AC20 ,  5F089CA20 ,  5F089EA10

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