特許
J-GLOBAL ID：200903095807346004
レーザ・アブレーション用薄膜作製装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (4件)：
眞鍋 潔
, 柏谷 昭司
, 渡邊 弘一
, 伊藤 壽郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-185472
公開番号（公開出願番号）：特開2004-027295
出願日： 2002年06月26日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：
【課題】レーザ・アブレーション用薄膜作製装置に関し、レーザ・アブレーション法を実施して薄膜を成膜する装置に極めて簡単な構成を付加することで、膜厚が均一で且つ大面積の薄膜が得られるようにする。【解決手段】成膜時に於けるレーザ・ビーム4の光路を一定とし且つ基板1の位置を固定した状態で作製した薄膜の膜厚分布を基礎として定められた膜厚が均一になる軌道5に倣って基板1の位置を連続的に移動させる駆動装置13を備える。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
成膜時に於けるレーザ光の光路を一定とし且つ基板位置を固定した状態で作製した薄膜の膜厚分布を基礎として定められた膜厚が均一になる軌道に倣って基板位置を連続的に移動させる機構
を備えてなることを特徴とするレーザ・アブレーション用薄膜作製装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
4K029BC04
, 4K029DB20
, 4K029EA01
, 4K029JA02
, 4M113BA11
, 4M113CA31
