特許
J-GLOBAL ID：200903095809738805
窒化シリコン膜除去液およびそれを用いた半導体製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-141036
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349808
出願日： 1993年06月14日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】【目的】 窒化シリコン膜除去時における酸化シリコン膜のエッチングレートを抑制できる窒化シリコン膜除去液を提供する。【構成】 リン酸溶液中に少なくとも50ppm以上のシリコンが含有された窒化シリコン膜除去液とする。
請求項（抜粋）：
リン酸溶液中にシリコンが含有されていることを特徴とする窒化シリコン膜除去液。
IPC (2件)：
H01L 21/308
, H01L 21/306
