特許

J-GLOBAL ID：200903095827383739

流体の吸着分離システム

発明者： 吉森 正嗣 ,  市橋 利夫
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 波多野 久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-094292
公開番号（公開出願番号）：特開2000-288332
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：

【要約】【課題】吹き込み後の助剤を回収してその有害ガス成分除去能力を測定し、余力のあるものは再吹き込みに利用することにより資源の有効利用とコスト低減を図る。【解決手段】流体が連続的に流通する流路と、流路内の流体に含有される特定の含有物質を吸着するための助剤を添加する助剤添加手段3と、助剤添加手段3の下流側で流体とともに流動する助剤bを捕獲して流体から特定物質を分離する助剤捕獲手段と、助剤捕獲手段から吸着能力の残存する助剤を回収し、流路の助剤捕獲手段よりも上流側に再度助剤を流体に添加する助剤再添加手段8とを備える。

請求項（抜粋）：

流体が連続的に流通する流路と、この流路内の流体に含有される特定の含有物質を吸着するための助剤を添加する助剤添加手段と、この助剤添加手段の下流側で前記流体とともに流動する前記助剤を捕獲して前記流体から前記特定物質を分離する助剤捕獲手段と、この助剤捕獲手段から吸着能力の残存する助剤を回収し、前記流路の前記助剤捕獲手段よりも上流側に再度前記助剤を前記流体に添加する助剤再添加手段とを備えたことを特徴とする流体の吸着分離システム。

IPC (3件)：

B01D 53/10 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/81 ZAB

FI (2件)：

B01D 53/10 ,  B01D 53/34 ZAB A

Fターム (23件)：

4D002AA19 ,  4D002AA21 ,  4D002BA04 ,  4D002BA14 ,  4D002CA01 ,  4D002DA05 ,  4D002DA12 ,  4D002DA41 ,  4D002EA07 ,  4D002EA13 ,  4D002GA03 ,  4D002GB06 ,  4D002GB20 ,  4D012CA12 ,  4D012CE01 ,  4D012CE02 ,  4D012CF05 ,  4D012CF06 ,  4D012CF10 ,  4D012CG01 ,  4D012CH01 ,  4D012CK07 ,  4D012CK10