特許
J-GLOBAL ID：200903095838535859
セラミック成形品の乾燥方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐野 静夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-237976
公開番号（公開出願番号）：特開平9-077552
出願日： 1995年09月18日
公開日（公表日）： 1997年03月25日
要約：
【要約】【課題】 高品質のセラミック成形品が得られるようにしたセラミック成形品の乾燥方法を提供する。【解決手段】 セラミック成形品にマイクロ波を照射して乾燥させるセラミック成形品の乾燥方法であって、セラミック成形品1をマイクロ波乾燥機で75〜85%の脱水率まで乾燥させる第1乾燥工程と、このセラミック成形品1を熱風乾燥機5で絶乾状態まで乾燥させる第2乾燥工程とから成ることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
セラミック成形品にマイクロ波を照射して乾燥させるセラミック成形品の乾燥方法であって、セラミック成形品をマイクロ波乾燥機で75〜85%の脱水率まで乾燥させる第1乾燥工程と、このセラミック成形品を熱風乾燥機で絶乾状態まで乾燥させる第2乾燥工程とから成ることを特徴とするセラミック成形品の乾燥方法。
FI (2件)：
C04B 33/30 C
, C04B 33/30 B
