特許

J-GLOBAL ID：200903095845174926

露光装置

発明者： 寺島 茂 ,  江渡 良 ,  宮地 剛司 ,  水澤 伸俊
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-095874
公開番号（公開出願番号）：特開平7-283128
出願日： 1994年04月08日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：

【要約】【目的】 ウエハのスクライブラインに転写されるアライメントマークのコントラストが低下するのを防ぐ。【構成】 アパーチャ10は光軸O1 を有するX線を通過させるアパーチャ開口10aを有し、アパーチャ開口10aの周縁はアパーチャ10の各アパーチャブレード1〜4の内端縁1a〜4aによって形成される。各アパーチャブレード1〜4の内端縁1a〜4aには段差1b〜4bが設けられ、これによってアパーチャ開口10aの周縁に凹凸が形成される。アパーチャ10は前記凹凸によって図示しないウエハの所定の回路パターン転写領域を囲むスクライブラインの一部をX線から遮断し、この部分に転写されるアライメントマークのコントラストが過剰露光によって低下するのを防ぐ。

請求項（抜粋）：

所定の方向に直列に配列された複数の回路パターン転写領域を有する基板の前記回路パターン転写領域を開口手段の開口を通る照明光によって逐次露光するように構成された露光装置であって、前記開口手段の開口の周縁に、前記所定の方向に互に離間して対向しかつ互に逆向きに配設された一対の段差による凹凸が設けられていることを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/00