特許

J-GLOBAL ID：200903095852780661

LSRO薄膜およびその製造方法

発明者： クロス ジェフリー スコット
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-212312
公開番号（公開出願番号）：特開平11-053935
出願日： 1997年08月06日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】【課題】 スパッタ法により化学量論的ペロブスカイト酸化物膜を形成する。【解決手段】 Si基板上のペロブスカイト結晶構造のLax Sr1-X RuO3薄膜はSrRuO3 およびLa含有ターゲットからのスパッタにより形成される。また、LaおよびRu含有ターゲットのスパッタによりLaRuO3 が形成され、過剰のSrを含むSrRuO3 ターゲットのスパッタにより化学量論的SrRuO3 膜が形成される。

請求項（抜粋）：

Si基板上に形成されたペロブスカイト結晶構造のLaX Sr1-X RuO3 (ここで、Xは1≦X≦0である)薄膜からなる電極薄膜。

IPC (7件)：

H01B 1/08 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/34 ,  C23C 14/58 ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/8242

FI (6件)：

H01B 1/08 ,  C23C 14/08 K ,  C23C 14/34 A ,  C23C 14/58 A ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 27/10 651