特許

J-GLOBAL ID：200903095861273357

シリカガラス板及びシリカガラス板の製造方法

発明者： 辛 平 ,  天野 正実 ,  鈴木 崇 ,  徳岳 文夫
出願人/特許権者： 東芝セラミックス株式会社
代理人 (2件)： 波多野 久 ,  関口 俊三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-195293
公開番号（公開出願番号）：特開2005-029413
出願日： 2003年07月10日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：

【課題】材料歩留がよく、製造コストが安く、かつ、高品質で脈理特性に優れる液晶表示板マスク用シリカガラス板材及びその製造方法を提供する。【解決手段】本シリカガラス板の製造方法は、円筒状合成シリカインゴットを作製し、このインゴットを加熱軟化させ、インゴットに隣接する円筒状の間隙から自重または強制的に引出し、このインゴットを軸方向に円筒状に伸延した管状体を準備し、この管状体にその軸方向にスリットを全長に渡って形成し、このスリットを真上になるように水平に支持し、加熱して、管状体を開き、板状体とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

合成シリカインゴットを作製し、このインゴットを加熱軟化させ、インゴットに隣接する円筒状の間隙から自重によりまたは強制的に引出し、このインゴットを軸方向に円筒状に伸延した管状体を準備し、この管状体にその軸方向にスリットを全長に渡って形成し、このスリットを真上になるように水平に支持し、加熱して、管状体を開き、板状体とすることを特徴とするシリカガラス板の製造方法。

IPC (2件)：

C03B19/00 ,  C03B20/00

FI (2件)：

C03B19/00 A ,  C03B20/00 Z

Fターム (1件)：

4G014AH00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-261630
  
• 高出力真空紫外線用合成シリカガラス大型板材およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-224450   出願人：信越石英株式会社
• 特開平3-261630
  
• 特開平3-261630